Chapter032 光刻機：至極變態的條件(第1/2 頁)

送走李強，布一楠開始檢視最近的各項工程進度。 水廠建好後，就要開始修建超純水系統來觀測超新星爆炸，將確實的證據擺在人類面前。 之前布一楠思考很久，還是決定要修建這個，因為這系統還有另外一個作用就是為未來研究中微子核裂變，是研究能源矩陣的基礎研究。 翻看資料，反滲透膜的技術已經被基地中一名材料學專家轉化為了工業技術，可實現量產了。 就是儀器裝置這塊還需要在打磨一下。 布一楠看了設計圖之後又將這份設計做了些許修改和調整。 現在國家可真的沒有太多錢了，自己的任何一項研究都需要海量資金。 雖然鄧玉峰從來沒說，不過她又不是傻的。 外附機械骨骼這件事就能看出來，國家在努力掙錢呢。 要不要再丟出一點東西，換錢？ 懸浮車？ 虛擬遊戲？ 磁懸浮技術拿出來了，估計產能夠嗆。 虛擬遊戲需要腦機技術，超級晶片製造出來之後才能實現。 這麻爪了。 布一楠暗嘲自己就不是個能發大財的人，手裡一堆王炸居然找不出一個能掙錢的東西。 算了，還是讓別人操心去吧。 她只管把技術拿出來就行。 還是先搞完自己的晶片大業吧，這玩意一出，無人能敵。 之前說完了龜腚……矽錠到矽片的過程。 接下來就是將矽片光刻製成晶圓，這裡就是整個晶片製造的另一個難點。 光刻就需要光刻機。 之前提到（第十章）EUV極紫光源的存在。 根據瑞利定理，要製造奈米級晶片，光刻的光波就要更短更小。 EUV是人類現階段能實現的最短光13.5奈米。 這個光是利用40千瓦鐳射驅動深紫外線光（DUV）發出的193奈米光打擊液態金屬錫來實現。 為了得到波長更短，強度足夠的光，需用光脈衝擊打液態金屬錫（20微米，從高空掉落的運動體）高頻重複五萬次每秒。 利用金屬吸收反射的原理將光波變得更短，但是這種光的波長是短了，強度又不夠，怎麼辦？ 那就打擊2次! 動次打次,動次打次~ 光有了，就相當雕刻於有了刀。 光刻機還需要反射鏡。 （反射鏡原理不用講吧，八年級物理，不會的都是九漏魚~自己自首去） 這種反射鏡只反射13.5奈米的光，鏡子直徑30cm,鏡面要求非常平整。 平整到什麼變態程度呢？ 如果把這面鏡子放大到地球那麼大，這上面只允長一根頭髮那麼大的誤差，大約0.05奈米左右的凸起厚度。 （像我這種天生頭髮絲細的人的頭髮大約就是50微米（1微米=1000奈米），我有個朋友她一根頭髮頂我五根。(?ε?｀)……羨慕死了……） 這樣的反射鏡每個鏡子有40層這種鏡面！一臺光刻機上有這樣的鏡子最少20個！！ ┴┴︵╰（‵□′）╯︵┴┴、 看到這裡，有沒有被逼瘋？ 這是目前宇宙中最光滑的人造結構了。 EUV的光透過反射、拐彎、過濾雜光，調整形狀之後，每次又都會損傷30%的光強，最後到達矽片上的就只剩下2%。 所以得出結論，造光刻機好難。 晶片製造的模板叫做光掩模，這個就是遮光膜和高純度石英玻璃基板合成光掩模底板，然後再經過繪圖顯影、蝕刻、去除光致抗蝕劑清洗後製造而成的。 （手搓芯這下可算會了，這不就是用光刻機透過光掩模在矽片上劃拉兩下的事嗎？有手就行！當初看過一本小說中，主人公熬夜一個月愣是把0.2奈米光刻機給造出來了！我只想說：我的天哪！=????=????(●???● |||)） 整個光刻機光刻時候有些像我們玩的光線遊戲，透過調整鏡子角度反射光線達到自己的目的。 晶片就是透過光刻機一次次調整鏡子將光傳送到指定區域進行光刻。 整個光刻機和矽片的前生後世都已經差不多說完，這裡面其實單拿出來看好像也不難。 但你會發現所有的這些都有一個精準度，純度。 所有材料要求高純度，不管是氣體液體全部都需要達到最大的那隻閾值。 而這個純度恰好就是擺在所有人面前的難